濕法激光粒度儀 型號:KM1-NKT5200-H

采用Mie氏散射原理和會聚光傅立葉變換光路，傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭雙鏡頭技術(shù)，高密度陣列探頭及全量程無縫銜接測試方法。濕法循/環(huán)分散系統(tǒng)采取了管道無/殘/留/設計，顆粒測試過程中無顆粒沉積現(xiàn)象，測試排水后無廢液積存現(xiàn)象。
適用范圍
激光粒度儀被應用于各種金屬、非金屬粉：如重鈣、輕鈣、滑-石-粉、高嶺土、石
墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤土、硅藻土、黏土、二氧化硅、石榴石、硅酸鋯、氧化鋯、氧化鎂、氧化鋅、河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、熒光粉、水泥、磨料、醫(yī)/藥、農(nóng)/藥、食品、涂料、染料、陶瓷原料、化工材料、納米材料、造紙?zhí)盍贤苛稀⒏鞣N乳液等
測量原理

濕法激光粒度儀 型號:KM1-NKT5200-H

全量程激光衍射
粒徑范圍:
0.1μm-1000μm（全量程測試）
探測系統(tǒng):
86通道均勻交叉及面積補償多方位陣列
激光器:
進口大功率光纖輸出半導體激光器，波長635nm、功率zui大20mw
光學模型:
全量程完-全米氏散射理論，包含高濃度多重散射動態(tài)補償技術(shù)
濾波方式:
雙鏡頭濾波技術(shù)，傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭
采集主板:
高速采集主板（10000次／秒)
濃度范圍:
zui低遮光度3%，zui高遮光度90%（光學濃度）
樣品池
特殊鍍膜工藝處理，光信號透過率>99.7%
光學對中系統(tǒng)
機械中心+光學中心雙定位全自動對中系統(tǒng)
測量時間
典型值<10秒
測量精度
準確性、重復性Dv50 均±0.5%（NIST 可溯源標準樣品)
測量方式
SOP可編輯全自動測量
環(huán)境溫度
0C - 45℃
環(huán)境濕度
10%-85%相對濕度(無結(jié)凝)
電源要求
220V(±20V), 50Hz - 60Hz
執(zhí)行標準
GB/T 19077-2024/ISO13320:2020
外觀尺寸
800mm×280mm×335mm
儀器重量
38kg