自動研磨拋光機(jī) 型號:KM1-UNIPOL-1202

KM1-UNIPOL-1202自/動研磨拋光機(jī)適用于材料的研磨與拋光，本機(jī)設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光≤?80mm的平面。KM1-UNIPOL-1202自/動研磨拋光機(jī)若搭配合適的輔助設(shè)備可以得到研磨表面，還可以對一定的樣品（如地質(zhì)薄片）進(jìn)行研磨與拋光。
KM1-UNIPOL-1202自|動研磨拋光機(jī)是用于晶體、陶瓷、紅外光學(xué)材料（如硒化鋅、硫化鋅、硅、鍺等晶體）、金屬、玻璃、巖樣、礦樣、PCB板、耐火材料、復(fù)合材料等材料的研磨拋光制樣。本機(jī)設(shè)置了?300mm的研磨拋光盤和兩個(gè)加工工位，可用于研磨拋光≤?105mm的圓片或?qū)蔷€長≤105mm的矩形平面。在研磨過程中兩個(gè)加工工位可以一定的頻率左右擺動，同時(shí)推動載物塊左右擺動，載物塊在進(jìn)行自轉(zhuǎn)的同時(shí)隨著研磨盤公轉(zhuǎn)，使樣品做無規(guī)則運(yùn)動，使研磨后的樣品表面均勻。研磨拋光機(jī)配備的載物塊是具有高的平面度和平行度的圓柱狀金屬塊，使研磨后的樣品表面也具有高的平面度，并且不會使樣品邊緣倒角，對邊緣要求高的樣品適合。KM1-UNIPOL-1202自|動研磨拋光機(jī)若配置適當(dāng)?shù)母郊℅PC-80A磨拋控制儀），可批量平面磨拋產(chǎn)品。搭配GPC-80A使用尤其適用于地質(zhì)薄片樣品的研磨與拋光。KM1-UNIPOL-1202研磨拋光機(jī)可以用研磨盤加磨料的方式研磨樣品，也可以選用拋光盤貼砂紙的方式研磨樣品，砂紙或拋光墊采用磁力吸附的方式裝卡。具體選用砂紙研磨還是磨料研磨可根據(jù)被研磨樣品的材質(zhì)進(jìn)行選擇。

·平拋光盤（平面度為每25mm×25mm小于0.0025mm）。
·精旋轉(zhuǎn)軸（托盤端跳小于0.01mm）。
·設(shè)有兩個(gè)加工工位。
·主軸旋轉(zhuǎn)采用無級調(diào)速控制方式，并設(shè)有數(shù)顯表實(shí)時(shí)顯示轉(zhuǎn)數(shù)。
·配有定時(shí)器，可控制工作時(shí)間（0-300h之間）。
·可選配自|動滴料器或循|環(huán)泵。
自動研磨拋光機(jī) 型號:KM1-UNIPOL-1202

產(chǎn)品名稱 KM1-UNIPOL-1202自|動研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品型號 KM1-UNIPOL-1202
安裝條件 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
1、水：設(shè)備配有上水口及下水口，需自行連接自來水及下排水
2、電：AC220V 50Hz，須有接地
3、氣：無
4、工作臺：尺寸800mm×600mm×700mm，承重200kg以上
5、通風(fēng)裝置：不需要
主要參數(shù) 1、電源：110V/220V
2、功率：275W
3、主軸轉(zhuǎn)速：低起動轉(zhuǎn)速~高轉(zhuǎn)速10-125rpm
4、工位：2個(gè)
5、支撐臂擺動次數(shù)：0-9次/分
6、托盤端跳：0.008/250mm
7、磨拋盤：?300mm
8、載物盤：?105mm
9、產(chǎn)品規(guī)格：
·尺寸：長550mm×寬700mm×高400mm
·重量：80kg

序號 名稱 數(shù)量 圖片鏈接
1 鑄鐵研磨盤 1個(gè)
2 鑄鋁拋光盤 1個(gè)
3 載物盤 2個(gè)
4 修盤環(huán) 2個(gè)
5 拋光墊（磨砂革、合成革、聚氨酯） 各1片
6 剛玉研磨微粉 0.5kg
7 石蠟棒 4根